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石墨镀层设备
石墨镀层设备
半导体碳化硅(SiC) 关键设备和材料技术进展的详解； 知乎专栏
2024年2月18日 我国已突破石墨SiC涂层的关键核心技术,同时多家企业正在推广TaC涂层,目前主要的SiC石墨涂层供应商包括:凯威、泰坦未来、湖南德智、深圳志橙、苏州铠欣等企业。而凯 石墨基座是MOCVD设备中的核心零部件之一，是衬底基片的承载体和发热体，它热稳定性、 SiC涂层石墨基座简介 知乎2023年11月8日 SiC涂层石墨基底作为化合物半导体产业设备的关键组成部分，掌握其生产制造的核心技术并实现国产化，将对我国半导体产业发展具有重要战略意义。 国产SiC涂层石墨基底领域正在蓬勃发展，产品质量有望达到国际先 碳化硅SiC涂层石墨基座在半导体制造中的关键作用 对于薄膜沉积阶段如取向附生或MOCVD，美尔森提供超纯净石墨设备，用来支持基片或晶片。 作为这个过程的核心，该设备、外延感受器或卫星平台首先受到沉积环境的影响： 高温。 高真 美尔森 高纯度等静压石墨 碳 钎焊夹具 玻璃－金属焊接
苏州铠欣半导体科技有限公司CVD石墨基座
2024年6月18日 铠欣半导体的核心产品是半导体外延设备CVD碳化硅石墨基座及热场整体解决方案，属于半导体外延设备的核心零部件。 此外，该公司还在烧结碳化硅陶瓷、块体碳化硅陶瓷等高端陶瓷零部件领域有丰富的技术储备。2023年5月10日 SiC涂层石墨基座作为化合物半导体产业化设备的核心部件，掌握其生产制造的关键核心技术，实现原材料—工艺—设备全产业链国产化，对于保障我国半导体产业发展具有重要战略意义。半导体零部件——SiC涂层石墨基座我们提供等静压石墨、碳化硅涂层、石墨软毡和硬毡、碳纤维增强碳，可满足各种应用需求，还提供SIGRAFLEX石墨箔。 我们所有的材料均具备高纯度、出色的机械强度和优异的耐腐蚀性，有各种尺寸可供选择。Semiconductor SGL Carbon深圳市志橙半导体材料股份有限公司成立于2017年12月26日，公司成立以来主要研发、生产、销售用于半导体设备的碳化硅涂层石墨零部件产品，并提供相关碳化硅涂层服务，主要产品可用于碳化硅（SiC）外延设备、MOCVD设备、 关于志橙 深圳市志橙半导体材料股份有限公司
美尔森 半导体 高纯度等静压石墨 石墨 SiC涂层
美尔森已经掌握了碳化硅薄膜的沉积工艺，在特别苛刻的环境中为石墨设备提供最佳的保护。 用于半导体及光伏行业的高纯度石墨，采用ETV ICP OES方法控制 美尔森已经研发了能够显著改 热喷涂石墨涂层设备厂家 石墨舟皿 氧化锆氧化钇涂层等离子喷涂机 广州三新金属 品牌 交期保障 ¥147 广州三新金属科技有限公司 5年 石墨舟皿等离子喷涂 厂家设备 实惠供应 坩埚 硬质合金热喷涂机 广州三新金属 石墨喷涂机石墨喷涂机价格、图片、排行 阿里巴巴深圳市志橙半导体材料股份有限公司成立于2017年12月26日，公司成立以来主要研发、生产、销售用于半导体设备的碳化硅涂层石墨零部件产品，并提供相关碳化硅涂层服务，主要产品可用于碳化硅（SiC）外延设备、MOCVD设备、 关于志橙 深圳市志橙半导体材料股份有限公司NiP化学镀层具有良好的耐蚀性能,在机械行业中获得了广泛应用。然而由于镀层存在气孔、针孔、麻点等缺陷,使其在恶劣的油田腐蚀环境中的应用受限。NiP化学复合镀和镀后处理工艺可以提高镀层的耐蚀性,扩展其应用范围。在众多的镀后处理工艺中,镀层表面封孔处理和疏水性处理是提高其 疏水性NiP石墨化学镀层的制备与性能研究学位万方数据
苏州铠欣半导体科技有限公司CVD石墨基座
2024年6月18日 铠欣集团成立于2019年，总部坐落于江苏苏州，制造基地位于湖南益阳。 公司致力于半导体领域高纯碳化硅涂层及陶瓷零部件的研发、生产、销售、应用服务与开发支持。其中湖南制造基地（湖南铠欣新材料有限公司）建立了领先水平的化学气相沉积碳化硅涂层生产线、精密加工中心和产品检验检测 2024年2月26日 公司成立于2008年，从欧洲进口全套镀膜涂层加工生产线，包括涂层设备，清洗线，前后处理设备及实验室检测设备。 从投产至今，公司的产品和服务现已赢得了良好的市场信誉，苏德涂层已成为国内规模与技术领先的涂层加工中心，现已有十多台欧洲进口涂层加工设备及等离子渗氮设备，公司员工 江苏苏德涂层有限公司专业的PVD/PECVD涂层喷涂石墨烯 超声波喷涂仪 喷涂装置膜电极 杭州驰飞。石墨烯固有的特性以及超声波喷涂均匀沉积纳米材料的能力，为电子、太阳能电池、先进电池技术甚至保护层的薄膜功能涂层提供了多的可能性。超声波喷涂技术已经证明能够用于喷涂石墨烯和氧化石墨烯薄膜，从而在许多新技术领域 喷涂石墨烯 超声波喷涂仪 喷涂装置膜电极 杭州驰飞金刚石涂层，石墨 潜力的释放者 石墨湿法加工为电极生产中的精密应用开辟了新的可能性 为了确定 最终尺寸所需的确切涂层厚度，测 量设备至关重要的。CIMTRODE开 发的带有4K相机的激光测量设备使 我们能够在几秒钟内都始终精确在 同一测量点测量 金刚石涂层，石墨潜力的释放者 CemeCon
银石墨复合镀层的摩擦磨损性能和导电能力 csejournal
2016年6月13日 结果表明，银石墨复合镀层 不但提高了摩擦副的抗磨和减摩性能还提高了材料的导电能力，降低了接触电阻 采用北京冠测精电仪器设备有限公司生产的体积表面电阻测试仪，测定润滑脂的体积电阻率；采用HLY200 A型回路电阻测试仪(铜制母排) 2023年5月10日 SiC涂层 石墨基座常用于金属有机物化学气相沉积（MOCVD）设备中支撑和加热单晶衬底的部件。 SiC涂层石墨基座的热稳定性、热均匀性等性能参数对外延材料生长的质量起到决定性作用，因此是MOCVD设备的核心关键部件。 关键词： 在晶圆制造 半导体零部件——SiC涂层石墨基座当涂层要求变得越来越个性化， 当刀具批量变得越来越小， 您需要一台能够快速、可靠进行涂层生产的设备。 CC800® HiPIMS — 无缝嵌入您已有生产线，每天最多可完成五个炉次不同涂层的批量生产。涂层设备 CemeCon石墨烯粉体的技术参数。石墨烯粉体按照厚度可分为单层石墨烯，少层石墨烯（210个原子层）和多层石墨烯（又称为“石墨烯纳米片”或“石墨烯微片”）；除了厚度，石墨烯的横向尺寸也是一个重要参数，不同横向尺寸石墨烯在原材料选择、 中科悦达（上海）材料科技有限公司石墨烯生产线
碳化硅涂层上海力滋碳素有限公司
网站首页 ꄲ 碳化硅涂层 我们采用CVD方法，在石墨表面沉积SiC（碳化硅），使石墨可以在更严苛的腐蚀条件下使用。此类产品广泛用于半导体行业，例如硅单晶生长、硅外延、碳化硅外延、MOCVD 。 部分加工制品： 碳化硅涂层 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司Advanced Nano Coating Technology Co,Ltd（简称ANC）创立于2019年6月，厂房面积3500平方， 一期总投资3000万人民币，是中国国内首家集CVD设备（化学气相沉积）设计，研发，制造， CVD设备CVD涂层加工常州艾恩希纳米镀膜科技有 2024年6月18日 银碳（石墨）是一种银和2%纳米石墨复合镀层，具有优异的耐磨性、低插入力和接触可靠性，适用于充电和高压连接器的应用。该新镀层可通过20,000次循环滑动试验，电镀厚度为5μm（载荷：2N，滑动距离：往返10mm），具有出色的耐磨性。镀金,镀银,镀镍,镇江金石电镀有限公司2019年5月26日 备GLC 镀层，研究基体偏压对铝合金组织与性能的 影响，为其应用奠定基础。1 实 验 选用AlZn4． 5Mg 铝合金，其主要成分为4． 5% Zn，1． 5% Mg，0． 32% Si，余量Al，试样规格为 Φ40mm ×5mm。采用UDP450 非平衡磁控溅射镀膜设备(如图 1 所示)制备铝合金表面磁控溅射类石墨镀层组织与性能研究
电刷镀制备银/银石墨烯复合镀层及其性能
结果表明：纯银镀层和复合镀层的附着力都达到标准要求；在NaCl和H 2 SO 4 腐蚀介质中,复合镀层的腐蚀速率均小于纯银镀层,在NaOH腐蚀介质中则相反；复合镀层的平均摩擦因数和磨损率最低,分别为0274和568×106 mg/（mN）,远小于纯银镀层,接触电阻与半导体零部件 —— SiC涂层石墨基座 据日经中文网消息，东洋炭素将在全球增产用于半导体制造装置核心零部件。除在美国和中国强化工厂外，该公司还将开始在意大利生产，加上在日本的增产投资，到2027年将合计投资360亿日元。其在承载碳化硅晶圆的托盘（基座）、被称为“Susceptor”的 半导体零部件——SiC涂层石墨基座湖南烯瑞自动化设备 2022年11月7日 苏州辉纳涂层科技有限公司于2016年成立于苏州工业园区，专业从事低温物理气相沉积（PVD）涂层设备及涂层工艺的研究、开发、及应用推广。公司拥有经验丰富的一流技术队伍，为客户提供专业的涂层服务及涂层设备的交钥匙工程。公司以低温PVD技术见长，最低镀膜温 苏州辉纳涂层科技有限公司2024年1月13日 因此，TaC 涂层托盘的使用寿命是优于裸石墨与 SiC 涂层石墨托盘。图 4 GaN 外延生长的 MOCVD 设备 (Veeco P75) 中使用后的晶圆托盘。左边的涂有 TaC 涂层，右边涂有 SiC 涂层[7]。贰 常见TaC涂层石墨件的制备方法 PART/ 1 CVD（化学气相沉积）法：Application and RD difficulties of TaC coated graphite parts
高导热涂层制备及其性能研究进展
2021年6月28日 导热涂层涂覆在设备外表面，在使用过程中会被 腐蚀，严重影响设备的使用寿命。因此，为了减小腐 蚀带来的影响，导热涂层应具备抗腐蚀性。聂晟楠等[26] 以石墨烯、石墨粉末、环氧树脂等为原料，制备了耐 腐蚀、高导热石墨烯复合涂层。研究结果表明，经静2023年11月8日 石墨表面涂层厚度无损检测是一种用于测量石墨表面涂层厚度的非破坏性检测方法，使用非接触式测量技术，如超声波测厚仪、涂层测厚仪或激光扫描仪等。北京中科光析科学技术研究所可进行石墨涂层、聚合物涂层、金属涂层、陶瓷涂层等各种样品的分析测试服务，依据的石墨表面涂层厚度无损 石墨表面涂层厚度无损检测检测机构中析研究所 (中化所)刷镀石墨（brush plating graphite）是指用于刷镀阳极的石墨材料。刷镀是依靠一个与阳极接触的垫式刷提供电镀需要的电解液的电镀方法。电镀时，垫式刷在被镀的阳极上移动。刷镀是在我国发展起来的一项修复机械零件的新技术。它具有设备简单，工艺灵便，镀积速度快镀层种类多，结合 刷镀石墨 百度百科2023年11月1日 该设备 用于酒精化工、湿法冶金、酸碱消耗、纤维分解、造纸等轻工业单位。，可节约少量非金属材料。因此，石墨还可用作真空冶炼、低温电阻炉管、棒、板、棚等部件的石墨隔音板和底座 石墨模具表面如何涂层？ 知乎
美尔森 高纯度等静压石墨 碳 钎焊夹具 玻璃－金属焊接
美尔森提议由超纯净石墨制成的且带碳化硅涂层的设备可以满足这些要求。 这些专门的解决方案是我们在材料和精加工方面钻研的成果: 经ETVICP法检查过的超纯净石墨等级。 我们石墨等级与碳化硅的兼容性（CTE）保证了防护涂层的长期完整性。2023年10月2日 石墨烯作为添加剂是利用超声波技术进行石墨烯涂层的深入研究领域。用于将石墨烯涂层 YMUSZM200超声波喷涂设备特性： 超声波喷涂设备 ，采用超声波喷头技术，可提供均匀高效的薄膜喷涂； 涂层厚度控制精度高：可制备几十纳米到几十微米 神奇材料石墨烯涂层——超声喷涂 知乎陶瓷产品 TaC 涂层石墨晶片载体 用于氮化镓和碳化硅薄膜沉积设备 Momentive Technologies 提供一种称为碳化钽（TaC）涂层的专有涂层技术。 其高温TaC 具有稳定性和高耐化学腐蚀性，可提高石墨反应器元件的寿命，并在 LED、深紫外和电力电子产品的 GaN 和TaC 涂层石墨晶片载体 Momentive Technologies时间再回到2017年，当时全球 MOCVD 设备市场主要被美国 Veeco、德国 Aixtron 等厂商垄断。 2017 年开始，中微公司生产的 MOCVD 设备逐渐打破上述企业的垄断。半导体设备厂商竞争激烈，2017 年上半年，美国 Veeco 对中微公司 MOCVD 设备用碳化硅涂层石墨基座的国外供应商西格里碳素开展专利诉讼，要求禁止 中微公司供应商志橙股份IPO终止，核心技术背后藏猫腻？
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1 天前 石墨设备 行业中的技术领军企业 ENG 销售热线： 导航 网站首页 关于我们 SJFF系列粉末涂层产品 耐酸工业膜 无机热超导技术 石墨制品 全国热线： 单位江苏省南通市城港路815号（加油站西180 公司的产品系列丰富，主要有硅外延设备碳化硅石墨基座、第三代半导体外延设备石墨基座、MOCVD设备碳化硅石墨基座、半导体设备用纯碳化硅产品和烧结碳化硅产品、光伏半导体碳化硅涂层热场产品、纯石墨件产品等，广泛应用于硅基半导体、第 三代 关于铠欣 苏州铠欣半导体科技有限公司2024年1月2日 DLC涂层和CrN涂层都具有在2000HV左右的高硬度。在纳狮的模具上机测试中，前100个零件测试中： CrN+涂层没有磨损，但工件出现了磨损。局部摩擦造成模具频繁需要清洁；DLC涂层，会产生石墨层拥有非常低的摩擦系数，CrN+和工件都没有磨损；07 其它#什么是DLC涂层纳狮真空镀膜加工Naxau AM2024年4月27日 而石墨烯的优势则是添加量少，添加量为质量分数1%以内即可达到导静电水平。由于添加量少，石墨烯导电涂料的涂层的力学性能一般优于炭黑导电涂料涂层的力学性能，因此石墨烯导电涂料能够实现涂层导电性和力学性能的同步提高。“新材料之王”石墨烯涂料的特性、应用与未来发展
柴油机活塞裙石墨镀层工艺改进及检测方法验证百度文库
图8 石墨镀层结合强度合格产品 图9 石墨镀层结合强度不合格产品 33 检测方法有效性验证 在实际生产中发现，某公司供货的几批次活塞，在出厂前采用胶带法检测均合格，但经现场试验，发生某些活塞裙石墨镀层脱落的现象。Boostec 碳化硅（SiC） 美尔森 Boostec 公司专注生产烧结碳化硅，并致力于产品的 创新 和 开发。 可以帮助客户设计碳化硅产品，以 确保更好的可行性，降低风险，并降低成本和缩短交付周期。 在某些应用中，碳化硅 产品还可以涂覆CVD（化学气相沉积）涂层，从而使产品表明纯度提高 美尔森 Boostec® 烧结碳化硅 SIC 密封圈 空间光学2024年7月29日 1、半导体用石墨制品 高纯石墨制品在第三代半导体单晶生长设备应用非常广泛，主要用于碳化硅(SiC)单晶生长炉石墨坩埚和石墨加热器，还普遍用于GaN外延生长石墨基座和抗高温烧蚀涂层石墨基座等。 石墨坩埚 图源：弘信新材 石墨加热器 图源：弘信新材半导体材料成长的“摇篮”中国石墨行业门户 2024年4月19日 等离子体刻蚀清洗石墨舟上沉积的镀层 为解决现有技术的缺陷，可采用等离子体干法刻蚀工艺，来清洗光伏生产用石墨舟，等离子刻蚀清洗主要通过等离子体清洗系统产生的等离子体轰击石墨舟表面膜层，并配合等离子体气体基团在石墨片表面 等离子体刻蚀清洗石墨舟上沉积的镀层 深圳纳恩科技有限公司
美尔森 半导体 高纯度等静压石墨 石墨 SiC涂层
提纯与涂层 用于半导体及光伏行业的高纯度石墨，采用ETV ICP OES 方法控制 美尔森已经研发了能够显著改善材料物理化学性能的工艺，尤其是针对承受高应力下的高科技应用 本项目研制大容量、自动化化新型HFCVD金刚石涂层设备，实现HFCVD金刚石涂层设备的整机智能化，提高沉积参数的控制精度，保证设备长时间运行的稳定性及批量化涂层质量的均匀性，相关技术达到国际先进水平。 效果指标CVD金刚石涂层工具及其产业化涂层装备 SJTUHCVAC将碳基涂层工艺和真空镀膜设备技术的长期经验应用于燃料电池金属双极板，通过等离子体表面清洁和特殊结合层工艺，获得结合力、导电性和耐腐蚀性良好的贵金属涂层和SCG涂层。 超级导电石墨涂层材料（Super Conductive Graphite，简称SCG氢燃料电池双极板连续镀膜设备,卧式连续镀膜生产线,连续磁控 2021年6月20日 石墨烯用化学气相沉积法制备的设备有：管式炉，微波等离子CVD设备、射频化学气相沉积设备等。 CVD管式炉 ：设备简单，操作容易，但是反应温度高，时间较长，耗费能量较大，无法制备大面积的石墨烯；此外，由于没有压力，薄膜生长容易形成褶皱，减小平整度。化学气相沉积法（CVD法）制备石墨烯的工艺流程 半导体百科